FIB扫描电子显微镜Crossbeam背后的先进技术（二）

　　 FIB扫描电子显微镜Crossbeam背后的先进技术（二）　　

　　Gemini新型光学系统

　　得益于高度灵敏的表面成像分析

　　在低着陆能量下获取高分辨图像已经成为SEM应用的标准。

本质上因为：

　　光束敏感样品

　　非导电材料

　　获得真实样品表面信息，而不受样品更深层背景信号的干扰

　　Gemini独特的电子光学结构优化低电压和超低电压的分辨率并且增强了衬度。

　　其技术特点为使用高分辨率电子枪模式和可选的样品台减速技术(Tandem decel)。

　　高分辨率电子枪模式通过将电子束最初能量色散降低30%，令电子束色差尽可能降低。

样品台减速技术可选样品偏压高达5 kV，进一步提高了低电压下的出色成像能力样品台减速技术现配置给蔡司Crossbeam350/550，可以在两种不同的模式下使用：

　　样品台减速技术(Tandem decel)采用两步式电子束减速模式，它结合了电子束推进器技术和对样品施加的高负偏压，使入射束的电子减速，进而有效降低着陆电压。

　　施加50V到100V之间的可变负偏压，一种应用模式可增强您图像的对比度。

　　施加1kV到5kV之间的负偏压，提高您图像的低加速电压分辨率。